大日本印刷は８日、次世代半導体の製品精度の向上に役立つ最先端フォトマスクを米ブライオンテクノロジーズと共同で開発すると発表した。ブライオンの持つ回路パターン検証用シミュレーション技術を大日本印刷のフォトマスク製造に応用する。回路線幅６５ナノメートル（ナノは１０億分の１）世代ＬＳＩの量産化、同４５ナノメートル以降の次世代製造技術確立に向けた需要に対応する。
ブライオンはシリコンウエハーに回路を形成する露光プロセスで、フォトマスクのパターンがウエハー上にどのように転写されるかをシミュレーションするシステムを開発した。同様機能のソフトはあるが、精度、高速性で優れるという。今回は２社共同で同システムをフォトマスク製造用に応用開発する。