オンワード技研、窒化チタンアルミ薄膜をプラズマ蒸着で均一形成
オンワード技研（石川県能美市、川畠清高社長）は、プラズマ蒸着による窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）の均一な薄膜形成の新技術「マルチハース・ＨＣＤ（ホロカソード）」を開発した。平滑で耐熱性や耐久性に優れる厚さ１マイクロメートルの被膜が得られる。極細ドリルや精密金型の強化用被膜の試作を１１月から受注する予定。
真空炉内で金属を蒸着させながら反応性ガスと反応させて化合物の被膜を得るホロカソード（ＨＣＤ）法を応用した。真空炉内で、チタンとアルミニウムを別々のプラズマビームで同時に溶融し、窒素と反応させる。プラズマの領域や照射角度などを工夫し、窒化チタンアルミニウムの均一な蒸着に成功した。
得られる被膜は１マイクロメートルと非常に薄く平滑で、８００度Ｃの耐熱性を持つ。密着性が高く、耐摩耗性にも優れている。
従来のＨＣＤ法は金属蒸気が均一に混合せず、多層膜となる。